製品概要

この高効率ナノスケールビーズミルは、サブミクロンおよびナノスケールの粒子径低減のために設計された高度なウェット粉砕ソリューションです。高エネルギーピン型ローター構成とプレミアムセラミック接触材料を利用し、本システムは連続生産およびバッチ試験において、精密で狭い粒子径分布を実現します。金属汚染を排除するよう特別に設計されており、内部粉砕チャンバーは極めて高い耐摩耗性と最適化された熱放散性を備えているため、オペレーターは熱に敏感な先進材料を完全な信頼性を持って処理できます。
厳しい材料科学および産業製造の要件を満たすために構築されたこの超微細ウェット分散システムは、バッテリーの正極・負極スラリー、構造用セラミックス、導電性インク、電子ペースト、および医薬品製剤の処理に優れています。本機は、空気圧式スラリー撹拌と動的供給機能を備えた25リットルのジャケット付きステンレス鋼循環タンクを統合しており、粉砕サイクル全体を通じて一定のスラリー均質性と均一な流体力学を維持するクローズドループ処理環境を作り出します。
比類のない動作安定性を提供する本設備は、堅牢な二重機械シールと包括的な自動安全監視を組み込んでいます。チャンバー圧力、流体温度、および冷却水流量をカバーするインテリジェントなインターロックにより、この機械は敏感な製品処方および構成部品を動作異常から保護します。産業用購入者は、銅および亜鉛を含まないフレームワーク、卓越した部品耐久性、および連続高スループット動作条件下での再現可能な処理指標に依存できます。
主な特徴
- 高純度炭化ケイ素粉砕チャンバー:モース硬度9.3、厚さ10mmのSiC内張りを特徴とし、汚染のない粉砕のために優れた熱伝導率、最小限の熱膨張、および極めて高い耐摩耗性を提供します。
- 95%純度ジルコニアセラミックピン撹拌機:エンジニアリングされたピンローター assembly は粉砕メディアを加速させて強力なせん断応力と微細衝撃力を発生させ、ナノメートルスケールまでの急速な粒子低減を駆動します。
- 統合空気圧式ダイアフラム供給システム:アルミニウムケーシング内に収められた自己吸込式テフロン(PTFE)ダイアフラムポンプを使用し、粘度スパイクやライン閉塞時の過加圧を自動的に防ぎながら、安定した容積スラリー供給を保証します。
- 輸入二重機械シール:0.2 MPaの圧力で動作する専用のバリア流体潤滑システムと、過酷な有機溶剤に耐えスラリーの漏洩を防ぐ耐薬性FFKM(パーフルオロエラストマー)Oリングを装備しています。
- 自動多段式安全インターロック:リアルタイムの接触圧力、熱センサー、および冷却水流量監視を特徴とし、チャンバー閉塞、冷却ライン閉塞、または温度異常を検出すると駆動モーターを自動停止させます。
- 銅フリー・亜鉛フリー構造フレーム:銅および亜鉛材料を厳密に避けた高炭素鋼とヘビーデューティーダクタイル鋳鉄構造で構築されており、リチウムイオン電池材料生産の厳格な純度基準を満たします。
- 大面積静的スクリーン分離機:微細ビーズメディアを効果的に保持しながら、スクリーンの目詰まりなしに高い容積スループットをサポートする、連続ステンレス鋼スクリーンメッシュ分離機構を組み込んでいます。
- ジャケット付き25Lスラリー循環タンク:鏡面仕上げ内面、空気圧式速度可変ミキサー、ソリッド駆動シャフト、および交換可能な分散ディスク(100〜150mm)を備えた二重壁304ステンレス鋼処理タンクを含みます。
用途
| 用途 | 説明 | 主なメリット |
|---|---|---|
| リチウムイオン電池材料 | LFP、NMC、シリコン炭素負極、および全固体電解質前駆体のウェット微細粉砕。 | 銅/亜鉛フリーの接触経路により金属汚染を防ぎ、電気化学的安定性を向上させます。 |
| 先進的ファインセラミックス | アルミナ、ジルコニア、窒化ケイ素、および電子セラミック粉末の超微細粉砕。 | モース硬度9.3のSiCチャンバーはメディアの劣化を防ぎ、一貫したサブミクロンの粒界を保証します。 |
| 電子ペーストおよびインク | 導電性銀ペースト、スクリーン印刷インク、および誘電体スラリー媒体の分散。 | 高せん断ピン密度は、熱劣化を引き起こすことなく凝集体を効率的に破砕します。 |
| 機能性顔料およびコーティング | 自動車用コーティング、インクジェットインク、高級有機および無機顔料の微細粉砕。 | 狭い粒子径分布を実現し、優れた発色力と透明度をもたらします。 |
| 医薬品および化粧品サスペンション | 有効医薬成分(API)、ナノエマルジョン、およびスキンケア鉱物のウェット粉砕。 | 二重機械シールを備えた完全密閉衛生流体経路により、バッチの純度を保証します。 |
| 太陽光発電スラリー | 太陽電池金属ペーストおよびシリコンウェハー処理化合物の微細分散。 | 連続流体再循環により、安定した粘度と均質な粒子懸濁を維持します。 |
技術仕様
| 仕様パラメータ | 主な値 / 標準仕様 | 注記およびバリエーションオプション |
|---|---|---|
| 装置型式識別子 | PP-SBM13 | 標準構成 |
| チャンバー純容量 | 3.0 リットル | ヘビーデューティー耐摩耗設計 |
| 粉砕メディア充填量 | 約7.5 kg | 95% YTZジルコニアビーズを使用した70%充填率 |
| 主駆動電源 | AC 380V、3相、5線式、50 Hz | 11 kW主電力定格(チラーを除く) |
| 圧縮空気要件 | 0.5 – 0.8 MPa | クリーンで乾燥した圧縮空気供給 |
| 主モーター駆動速度 | 最大1470 RPM | ヘビーデューティーベルト駆動伝達 |
| メディア分離システム | 大面積静的スクリーンメッシュ | ステンレス鋼遠心スクリーン分離 |
| スラリー供給圧力 | 0.6 MPa | 許容範囲 ±0.2 MPa |
| スラリー排出温度 | 0°C ~ 100°C | 外部冷却制御により完全調整可能 |
| 入口 / 出口寸法 | 入口:DN20 / 出口:6/8"(6ポイントねじ) | 標準化された配管接続 |
| 冷却水流量 | 約660 L/h | 外部チラーが必要 |
| 冷却水動作温度 | 8°C ~ 12°C | 水道水または冷凍循環チラー |
| 冷却水圧力およびポート | 0.4 MPa | 1インチフレキシブルホース接続 |
| チャンバー内張り材質 | 炭化ケイ素(SiC)セラミック | モース硬度9.3;壁厚10mm |
| ピンおよびローター材質 | 95%純度ジルコニアセラミック | 超高耐摩耗性および耐食性 |
| 前部 / 後部バッフル材質 | ジルコニアセラミック | 汚染のない粉砕経路 |
| 外部チャンバージャケット | SUS304ステンレス鋼 | ジャケット付き冷却流体チャンネル |
| フレーム構造材質 | 高炭素鋼 + ダクタイル鋳鉄 | 厳格に銅フリーおよび亜鉛フリー |
| 機械シールタイプ | 両端輸入機械シール | バリア流体圧力:0.2 MPa |
| 機械シールOリング | パーフルオロエラストマー(FFKM) | 溶剤および耐薬品性 |
| スラリー循環タンク容量 | 25 リットル | ジャケット付き二重壁構造 |
| スラリータンク材質および仕上げ | 304ステンレス鋼 | 内面鏡面仕上げ;外面マット仕上げ |
| スラリータンク撹拌システム | ノブ速度制御付き空気圧モーター | 100〜150mmディスク付きソリッドSUS304シャフト |
| スラリータンク寸法 | Ø300 mm x H 765 mm | 内壁2.0mm;外部ジャケット1.5mm |
| スラリータンク重量 | 約26 kg | 3つのキャスター(旋回)と脚に搭載 |
| 本体寸法 | 約1055 mm (L) x 1070 mm (W) x 1740 mm (H) | メインミル本体の設置面積 |
| 制御キャビネット寸法 | 約410 mm (L) x 600 mm (W) x 2060 mm (H) | 独立キャビネット(高さはスタックライト含む) |
| 保護等級 | IP55 | 独立制御キャビネットエンクロージャー |
| システム総重量 | 約610 kg | チラーを除く本体重量 |
この製品を選ぶ理由
- 妥協のない材料純度:炭化ケイ素ライナーとジルコニアセラミックピンの組み合わせにより金属汚染のリスクが排除されるため、本機はバッテリー研究および電子部品製造の理想的な選択となります。
- 堅牢な安全アーキテクチャ:複数の自動インターロックが圧力差、温度、および冷却水流量をリアルタイムで監視し、機械的損傷を防ぎ、貴重な原材料を保護します。
- 優れた熱管理:高伝導性SiCセラミック壁と高流量ジャケット冷却の組み合わせにより、高エネルギーナノ粉砕サイクル中でも低い動作温度を維持します。
- ターンキー循環システム:専用の25Lステンレス鋼ジャケットタンク、空気圧撹拌機、および自己吸込式供給ポンプが含まれており、既存のパイロットラインまたはラボラトリースイートへの容易な統合を保証します。
- 精密エンジニアリングとサポート:厳格な品質保証基準の下で製造されており、包括的な技術サポート、カスタマイズ可能なセラミック構成、および入手容易な摩耗部品を提供します。
ウェット粉砕の要件について話し合う、詳細なテストデータをリクエストする、またはカスタマイズされたシステムの見積もりを取得するには、今日までに技術エンジニアリングチームにお問い合わせください。
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