製品概要

この高エネルギー実験室用ウェットグラインディングシステムは、真のサブミクロンおよびナノスケールの次元まで迅速に粒子サイズを低減するように特別に設計されています。先進的なピン型撹拌アーキテクチャと超微細マイクロビーズメディアを利用し、この装置はコンパクトな処理チャンバー内で例外的な衝撃と高強度のせん断力を発生させます。その設計により、研究者と材料科学者は狭い粒子サイズ分布を迅速に達成し、粗いまたは凝集したスラリーを最小の滞留時間で高分散ナノサスペンションに変換することができます。
要求の厳しい研究機関、大学の研究室、および専門的な産業用R&D施設向けに構築されたこのウェットメディアミルは、先進セラミックス、エネルギー貯蔵材料、電子ペースト、顔料、およびファインケミカルの分野で卓越した性能を発揮します。完全に密閉された処理ループは、サンプルの蒸発、交差汚染、および有毒蒸気の放出を排除し、ウェットグラインディングプロセス中の精密な運用制御を保証します。予備的なバッチ評価からプロセススケールアップテストに至るまで、一貫したパフォーマンスを提供します。
最高のエンジニアリング基準で製造されたこの装置は、内部流体回路全体に極めて耐摩耗性の高い素材を採用しています。炭化ケイ素の内部グラインディングバレル、ジルコニアセラミック製撹拌ピン、および耐酸・耐アルカリシールコンポーネントを備え、このマシンは例外的な耐久性と純度を保証します。産業グレードのコンポーネントは、高せん断条件下での反復可能で信頼性の高い動作を保証し、材料科学のイノベーションに不可欠な機器となっています。
主な特徴
- 高強度セラミックピン撹拌システム:ジルコニアセラミック製分散ピンがグラインディングビーズに強力な運動エネルギーを伝達し、強力なせん断とマイクロインパクトゾーンを作り出し、粒子サイズを急速にナノメートルスケールまで低減します。
- 炭化ケイ素製グラインディングバレル:内部処理チャンバーは高密度炭化ケイ素でライニングされており、優れた熱伝導率、極めて高い耐摩耗性、および金属系サンプル汚染の完全な防止を提供します。
- 動静一体型360度排出セパレーター:精密に設計された360°動静分離アセンブリは、メディアの詰まりを防ぎ、0.3mmまでの超微細ビーズを使用して粉砕されたスラリーを連続的かつスムーズに排出することを可能にします。
- 調整可能なセパレーターギャップ幅:分離ギャップは0.1mmから0.3mmの間で微調整が可能で、オペレーターはメディアサイズ、スラリー粘度、および特定のプロセス要件に基づいて流動特性を最適化できます。
- 完全密閉式処理エンクロージャー:気密に密閉されたグラインディングチャンバーは、高速ウェットミリング操作中の溶媒蒸発、大気汚染、およびスラリーの漏れを防ぎます。
- 耐食性エラストマーコンポーネント:すべての内部シールとOリングは、酸、アルカリ、および塩に耐性のある高グレード素材で作られており、侵食性の溶媒システムとの互換性を保証します。
- ジャケット式熱管理回路:外部循環流体源に接続された統合冷却ジャケットを備え、熱に敏感な化学および生物学的化合物を保護するためにプロセス温度を安定した8°Cに維持します。
- 自吸式スラリー供給アセンブリ:統合された自吸式供給メカニズムにより、0.1Lから1Lのバッチ容量について、粉砕ゾーンへのスムーズで連続的な材料移送が保証されます。
- 可変速度ベルト駆動システム:2800 RPMで動作する堅牢な電気モーターによって駆動され、このシステムはプーリ駆動セットアップを利用し、敏感な処方に合わせて線速度を調整できます。
- 長寿命コンポーネント:ジルコニアセラミックピンマトリックスおよび動的セパレーターアセンブリを含む重要な摩耗部品は、平均14,600時間の連続動作寿命を持つように定格設定されています。
用途
| 用途 | 説明 | 主なメリット |
|---|---|---|
| 先進セラミックス | 焼結前にアルミナ、ジルコニア、窒化ケイ素などの原料セラミック粉末をナノメートル次元まで粉砕します。 | 最終的なセラミックスにおいて、超高密度のグリーン体、金属汚染ゼロ、および優れた機械的強度を保証します。 |
| バッテリー・エネルギー貯蔵 | リチウムイオン電池の正極・負極活物質、固体電解質、および導電性カーボン添加剤の凝集解消と微細ウェット粉砕。 | 均一な粒子サイジングを通じて、電気伝導率、バッテリーエネルギー密度、および充放電レート性能を向上させます。 |
| 電子ペースト・インク | マイクロエレクトロニクスおよびプリント回路基板製造に使用される導電性粉末、誘電体スラリー、およびナノシルバーペーストの微細分散。 | 狭い粒子サイズ分布をもたらし、ノズルの詰まりを防ぎ、高い回路ライン解像度を保証します。 |
| ナノ顔料・コーティング | 有機および無機顔料、自動車トップコート、および光学コーティングの高せん断粉砕。 | 最大の発色力、高透明性、卓越した光沢、および長期にわたる懸濁安定性を実現します。 |
| 医薬品・バイオマテリアル | 難溶性の有効成分(API)および生物活性粉末のナノ結晶化とウェット分散。 | 精密なサブミクロンサイズ制御を通じて、バイオアベイラビリティ、溶解速度、および薬物送達効率を高めます。 |
| 機能性金属酸化物 | 触媒、紫外線吸収剤、および半導体基板用の希土類酸化物、二酸化チタン、および酸化亜鉛の処理。 | 欠陥のない、汚染のないナノ粒子の生成を通じて、一貫した触媒活性と光学透明度を保証します。 |
技術仕様
| パラメータカテゴリー | 仕様詳細 (PP-SBM17) |
|---|---|
| 装置モデル識別子 | PP-SBM17 |
| 電源要件 | 単相AC 220V、50Hz |
| 総消費電力 | 約1.1 kW(外部チラーユニットを除く) |
| グラインディングバレル正味容量 | 0.3 L |
| 処理バッチ容量範囲 | 0.1 L ~ 1.0 L |
| 排出セパレータータイプ | 動静一体型360°排出アセンブリ |
| 使用可能セパレーターギャップ範囲 | 0.1 mm ~ 0.3 mm(調整可能) |
| セパレーター耐用定格 | 平均耐用年数約14,600時間 |
| 最小グラインディングメディアサイズ | 0.3 mm 純ジルコニアビーズ |
| 推奨グラインディングメディア | 95% 純度イットリア安定化ジルコニアビーズ |
| 推奨メディア充填率 | チャンバー容量の70% ~ 90% |
| 内部バレルチャンバー素材 | 高熱伝導率炭化ケイ素(SiC) |
| 分散ピンローター素材 | 超高耐摩耗ジルコニアセラミック(ZrO2) |
| 分散ピン耐用定格 | 平均耐用年数約14,600時間 |
| 冷却システム構成 | 外部循環冷却水(CW-5300ANチラー互換) |
| 目標冷却流体温度 | 8°C |
| スラリー供給メカニズム | 統合自吸式供給アセンブリ |
| 供給入口圧力監視 | 統合圧力ゲージ(最大0.2 MPa) |
| 駆動・伝達機構 | プーリ・ベルト駆動(プーリ比による線速度調整可能) |
| メインローター回転速度 | 2800 RPM |
| 内部シャフトシールタイプ | 高性能精密ロータリーシールシステム |
| Oリング・ガスケット互換性 | 耐酸・耐アルカリ・耐塩エラストマー |
| 外形寸法(幅 × 奥行 × 高さ) | 約525 mm × 525 mm × 670 mm(チラーユニットを除く) |
| システム正味重量 | 約90 kg(チラーユニットを除く) |
この製品を選ぶ理由
- 汚染のないウェットミリング:炭化ケイ素の内部チャンバーライナーとソリッドジルコニアセラミックピンの組み合わせにより、金属接触領域を完全に排除し、電子、光学、およびエネルギー材料に必要な高い化学的純度を維持します。
- 卓越したサブミクロン性能:0.3mmという小さなマイクロビーズを使用できる能力により、このシステムは高せん断密度を提供し、粒子の凝集障壁を効率的に突破して真のナノメートルスケールまで低減します。
- 産業グレードの耐久性:動的360度セパレーターおよびセラミック分散ピンを含む主要な機能コンポーネントは、14,600時間の動作定格を持っており、システムのダウンタイムとメンテナンスコストを最小限に抑えます。
- 精密な温度管理:高効率ジャケット冷却設計により、8°C前後での厳密な温度安定化が可能になり、熱に敏感または高揮発性の溶媒サスペンションを安全かつ反復可能に粉砕できます。
- 多様な化学的互換性:完全に耐性のあるシールアーキテクチャは、酸性、塩基性、および塩分を含む有機または水系流体を処理でき、多様な化学処方における柔軟性を提供します。
見積もりを依頼する、特定のスラリーミリングパラメータについて話し合う、またはカスタマイズされたサンプル処理ソリューションを検討するには、今日までに技術エンジニアリングチームにお問い合わせください。
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