光触媒式高エネルギー振動ボールミル ナノ粉末メカノケミストリシステム

Vibration Ball Mill

光触媒式高エネルギー振動ボールミル ナノ粉末メカノケミストリシステム

商品番号: PP-VB32

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製品概要

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本製品の光触媒式高エネルギー振動ボールミルは、高度なナノ粉砕、微粒子化、そしてin-situ(その場)光メカノケミカル合成のための最先端ソリューションです。高エネルギー機械粉砕チャンバーに直接高出力光照射を統合することで、高周波機械衝撃と集中せん断力に加え、制御された光子エネルギーを同時に印加することができます。この複合エネルギー機構により、研究チームやプロセスエンジニアは、従来の熱処理よりも低い周囲温度で複雑な化学変換、固相反応、表面改質を行うことが可能です。

高硬度から中低硬度、脆性材料、軟質材料、繊維質材料、弹性材料、粘性材料まで、非常に多様なサンプル種に対応するよう設計されており、半導体開発、太陽電池材料合成、電池電極の改質、光重合、触媒粉末工学の分野で優れた性能を発揮します。乾式・湿式・真空粉砕環境のいずれでも効果的に動作し、最大10mmまでの原料投入に対応、安定して100ナノメートルスケールまで材料を微粉化することができます。高透過性石英ガラス製の2つの粉砕ステーションは、サンプルの汚染を防ぎながらリアルタイムの光子結合を可能にします。

要求の厳しい産業研究所やパイロットスケール試験に対応するため、IP65保護等級、堅牢なステンレス製ワークベンチ、高度な可変周波数ドライブシステムを搭載しています。自動安全インターロック、過温度保護、統合された放熱機構により、長時間運転でも安定した再現性のある性能を確保します。精密な平面弧往復運動とカスタマイズ可能な光源の組み合わせにより、現代の材料科学やグリーンケミストリーの用途に欠かせないプラットフォームとなっています。

主な特長

  • 一体型光触媒光照射ユニット: 専用のカスタマイズ可能な光モジュール(波長範囲100~1100nm、出力100W)を搭載し、粉砕中に反応領域に直接可視光または不可視のUV/IR光を照射することで、真のin-situ光メカノケミカル反応と光触媒試験を実現します。
  • 精密往復平面弧運動: 180~1800r/minの可変周波数モーターで駆動する2次元弧運動プロファイルにより、強力な衝撃と摩擦エネルギーを発生させ、サブミクロン・ナノメートルスケールの粒子を急速に微細化します。
  • 高透過性石英ガラス反応容器: 超高純度石英ガラス製の50ml粉砕ジャーを2本標準装備し、UV-Vis-NIRスペクトル全体で優れた光学透過性を提供すると同時に、耐熱衝撃性と高い機械的耐久性を維持します。
  • 複数モードに対応した雰囲気・溶媒適合性: 乾式粉砕、湿式スラリー処理、不活性ガス真空粉砕をシームレスにサポートし、研究者が反応速度条件を最適化し、酸素や水分に敏感な化合物を保護することができます。
  • 充実したプログラマブルデジタルコントローラ: 連続運転、間欠運転、タイマー運転に対応した高度なマイクロプロセッサ制御を搭載し、不揮発性の停電メモリ、複数レシピのデータ保存、自動動的速度補償機能を備えています。
  • 堅牢な熱管理と遮蔽機構: ステンレス製冷却ワークベンチと高効率放熱経路を標準装備し、外部に完全な遮光フード、内部に鏡面反射板を備えることで光子分布を最適化し、強い放射線から作業者を保護します。
  • 人間工学に基づいたクイッククランプとモジュール設計: 高速クランプ機構によりセットアップ時間を最小化し、高重力下でも確実に固定します。また、光源ユニットは簡単に取り外し可能で、メンテナンスの簡素化と光学系の迅速な変更を可能にしています。
  • 産業用グレードの安全保護機能: 電子式過負荷保護、危険操作インターロック、IP65の筐体シーリングを設計に盛り込み、過酷な研究所環境でも安定した操作安全性を提供します。

用途

用途 説明 主なメリット
ナノ構造シリコン・電池材料 不活性または真空雰囲気下で、高エネルギー衝撃と機械的せん断を組み合わせ、ミクロンスケールのシリコンや電池活物質を100nmまで微細化します。 酸化物汚染を最小限に抑えながらナノ構造化の反応速度を加速し、エネルギー密度と充放電サイクル安定性を向上させます。
光触媒粉末合成 連続光照射下で、TiO2、g-C3N4、ペロブスカイト構造のin-situメカノケミカルドーピングと表面官能基化を行います。 結晶格子に直接構造欠陥とドーパントを導入することで、光吸収限界と量子効率を向上させます。
メカノケミカル有機合成 機械的応力と特定の波長の光下で、無溶媒または少量溶媒での有機カップリング反応、光重合、光硬化を実施します。 有毒な有機溶媒を機械的エネルギーと光子励起で置き換え、環境に優しい条件で高い反応収率を達成します。
固体材料処理 精密にタイミング制御された振動サイクルで、2つの粉砕ステーションを使って硬質・脆性・軟質・繊維質の複合前駆体を均質化します。 熱焼結前に成分の原子レベルでの分布を確保し、相変態温度を大幅に低減します。
医薬品ナノ製剤 高純度セラミックメディアを使用し、石英ジャー内で医薬品有効成分(API)と賦形剤を湿式で超微細共粉砕します。 金属不純物の混入や熱劣化を引き起こすことなく、APIの表面積と溶解速度を向上させます。
環境分解研究 制御されたUV/可視光照射下で、マイクロプラスチック、汚染物質、使用済み触媒のリアルタイム機械摩耗と光分解を研究します。 運動エネルギーによる機械力と光放射を組み合わせ、過酷な多因子環境風化を加速的に再現します。

技術仕様

パラメータ分類 仕様詳細 値 / 特長
製品識別 装置モデル / 識別子 PP-VB32
動作機構 処理原理 衝撃力と摩擦力
運動パターン 平面弧往復運動
振動周波数範囲 180 – 1800 r/min(無段階調整可能)
制御方式 可変周波数制御(VFD)
材料適合性 対応可能な原料サンプルの特性 硬質、中/低硬度、脆性、乾式、粘性、繊維質、軟質、弾性
最大原料投入粒子サイズ < 10 mm
最終到達可能粒子サイズ 約100 nm
処理モード 粉砕、混合、均質化、メカノケミストリ、光触媒、光硬化、光照射
粉砕ステーション構成 粉砕プラットフォーム容量 2ステーション
粉砕ジャー素材 高透過性石英ガラス
粉砕ジャー容量 1本あたり50ml(2本標準付属)
粉砕メディアサイズ範囲 0.1 mm – 25 mm(選択可能)
対応可能な粉砕メディア素材 タングステンカーバイド、ジルコニア、瑪瑙、ステンレスなど
光学・光触媒システム 光スペクトルオプション 可視光 / 不可視光(UV / IR)
光波長範囲 100 – 1100 nm(カスタマイズ可能)
光源出力パワー 100 W(カスタマイズ可能)
照射角度 90° – 120°
照射距離 42 mm
光学設計 着脱式 / 交換可能光源
標準付属光学アクセサリ 完全遮光フードと内部反射フード
制御・補助機能 コア制御機能 連続運転、間欠運転、タイマー運転、速度調整、データ保存、停電メモリ、過負荷保護、危険操作保護、専用光照射ユニット、照明スイッチ制御
補助機能 クイッククランプアセンブリ、反射フード、遮光フード、ステンレス製ワークベンチ、アクティブ放熱
電気・物理仕様 電源仕様 AC 200~240V、50/60 Hz、550 W
対応プラグ規格 日本標準、欧州、米国、英国など
装置正味重量 98 kg
外形寸法(幅 × 奥行 × 高さ) 680 mm × 540 mm × 320 mm
侵入保護等級 IP65
規格認証 CE適合

本製品を選ぶ理由

  • 相乗的な複合エネルギー処理: 高周波機械衝撃・せん断と選択可能波長の光照射を組み合わせることで、熱力学的反応障壁を打破し、従来の粉砕装置では不可能な独特の固体化学反応を可能にします。
  • 優れたサンプル純度と光学透過性: 精密加工された石英ガラス容器と高純度セラミック粉砕メディアの組み合わせにより、金属汚染のリスクを排除すると同時に、反応媒体への最大限の光供給を実現します。
  • 産業レベルの品質と安全コンプライアンス: CE認証、IP65環境保護、動的放熱、包括的な遮光機能を備えて厳格な基準に従って製造されており、高出力UVやレーザー実験中も作業者の安全を確保します。
  • 柔軟な用途適応性: 弾性ポリマーから硬質酸化物まで多様なサンプル質感に対応し、乾式・湿式・真空モードに対応するほか、お客様の必要な波長に合わせて完全にカスタマイズ可能な光源(100~1100nm)を提供します。

詳細な試験報告書の請求、特定の光触媒粉砕要件のご相談、研究プロセスに合わせたカスタマイズ見積もりのご依頼は、今すぐ弊社の技術アプリケーションスペシャリストまでお問い合わせください。

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